N - टाइप सिलिकॉन सोलर सेल

हमारी n - टाइप सिलिकॉन सोलर सेल तकनीक अल्ट्रा - शुद्ध फॉस्फोरस - ऑक्सीजन के स्तर के साथ 0.5ppma के नीचे ऑक्सीजन के स्तर के साथ डोपेड सिलिकॉन का उपयोग करती है, प्रभावी रूप से प्रकाश - और तापमान - संबंधित प्रदर्शन (lid/}}। मालिकाना क्वांटम पासेशन परत एक नैनोस्केल संरचना में Al₂o, sin, और tio₂ को जोड़ती है जो सतह के पुनर्संयोजन के नुकसान को 0.8% - से कम करने के लिए 2-3% उद्योग मानक से काफी बेहतर है।

3 डी इंटरडिगिटेड बैक कॉन्टैक्ट डिज़ाइन में पारंपरिक आईबीसी कोशिकाओं की तुलना में लेजर - etched ऊर्ध्वाधर चैनल हैं जो 18% तक चार्ज कलेक्शन को बढ़ावा देते हैं। यह उन्नति रेखांकित करती है कि क्यों n - टाइप सिलिकॉन सौर सेल प्रौद्योगिकी उद्योग को जन्म देती है। हमने ग्राफीन - बढ़ाया संपर्क भी विकसित किया है जो आमतौर पर उपयोग किए जाने वाले चांदी के 90% को बदलते हैं, एक अल्ट्रा - केवल 0.6mω · cm² के कम संपर्क प्रतिरोध को प्राप्त करते हैं।

हमारी उत्पादन प्रक्रिया शामिल है:

● एआई - अनुकूलित क्रिस्टल विकास जो 2PPMA से नीचे ऑक्सीजन अशुद्धियों को रखने के लिए गतिशील रूप से चुंबकीय क्षेत्रों को समायोजित करता है

● प्लाज्मा - आधारित सतह बनावट जो कि 300-1200NM स्पेक्ट्रम में 99% से अधिक प्रकाश को कैप्चर करता है

चुनौतीपूर्ण वातावरण के लिए, हम पेशकश करते हैं:

• आर्कटिक - -60 डिग्री पर 85%+ दक्षता बनाए रखने के लिए एकीकृत हीटिंग के साथ अनुकूलित संस्करण
• अंतरिक्ष - ग्रेड मॉड्यूल विकिरण - 30-वर्षीय कक्षीय मिशनों के लिए कठोर